PVD真空镀膜就是我们所说的物理气相沉积的英文首字母缩写（PVD）。是在真空条件下，利用蒸发或溅射等物理形式，把固体的材料转化为原子、分子或者离子态的气相物质然后使这些携带能量的蒸发粒子沉积到基体或零件的表面，以形成膜层的膜制备方法。物理气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射镀和离子镀。

真空蒸镀：在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发，然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。

溅射镀：溅射是利用高速正离子轰击某一靶材（阴极），使靶材表面原子以一定能量剥离，后在工件表面沉积的过程。

离子镀：借助于一种惰性气体的辉光放电使被镀金属或合金蒸发离子化，并使这些荷能离子轰击基体（工件）表面，同时沉积在其表面形成膜层。

以上就是 PVD真空镀膜 的三种工艺，不同基材，不同要求，所选择的镀膜工艺自然也不同，如您想了解更多有关真空镀膜相关知识，欢迎致电：18018742966